2나노미터 세대 EUV 리소그래피용 포토마스크 제조 공정 개발 가속화
NEDO에 의한 「포스트5G정보통신시스템 기반강화 연구개발사업」에 Rapidus의 재위탁처로 참여
2024년 3월 27일
대일본 인쇄 주식회사(본사:도쿄 대표 이사 사장:기타지마 요시이 이하:DNP)는, 반도체 제조의 최첨단 프로세스의 EUV(Extreme Ultra-Violet:극단 자외선) 리소그래피에 대응한,2 나노미터(nm:10-9 m) 세대의 로직 반도체용 포토마스크 제조 프로세스의 개발을 본격적으로
DNP는 이번, Rapidus 주식회사(본사：도쿄 대표 이사 사장：코이케 준요시)가 참가하고 있는 국립 연구 개발 법인 신에너지·산업 기술 종합 개발 기구(NEDO)의 「포스트 5G 정보 통신 시스템 기반 강화 연구 개발 사업」에 재위탁처로서 참가해, 본 제조 프로세스 및 보증에 관련되는 기술을 제공합니다.
포토마스크의 보호 필름인 펠리클*1 부착 EUV 리소그래피용 포토마스크
【개발 배경과 개요】
최근 최첨단 로직 반도체에서는 EUV 광원을 이용한 EUV 리소그래피에 의한 생산이 진행되고 있습니다. DNP는 2016년에 포토마스크 전업 메이커로서 세계 최초로 멀티 전자빔 마스크 묘화 장치를 도입하는 등 *2 높은 생산성과 품질을 갖춘 첨단 영역의 반도체 제조 대응을 강화해 왔습니다. 2023년에는 3나노미터 세대의 EUV 리소그래피용 포토마스크 제조 프로세스의 개발을 완료 *3 하여 2나노미터 세대의 개발을 시작했습니다.
이번 새로운 미세화의 요구에 부응하여 2024년도 중에는 2대째와 3대째의 멀티 전자빔 마스크 묘화 장치를 가동시키는 등 2나노미터 세대의 EUV 리소그래피용 포토마스크 제조 프로세스의 개발을 본격화해 나갈 것입니다.
또한 NEDO의 「포스트5G정보통신시스템 기반강화연구개발사업」에 있어서 Rapidus 주식회사가 수탁한 「(d1)고집적 최첨단 로직반도체의 제조기술개발」에 DNP는 재위탁처로 참여하고 있습니다.
【향후의 전개】
DNP는 2025년도까지 EUV 리소그래피에 대응한 2나노미터 세대의 로직 반도체용 포토마스크의 제조 프로세스의 개발을 완료하고, 2026년도 이후에는 2027년도의 양산 개시를 향해 생산 기술의 확립을 진행해 나갈 것입니다.
게다가 2나노미터 세대 이후를 전망한 개발에도 착수하고 있어 벨기에에 본부를 둔 최첨단 국제연구기관 imec과 차세대 EUV용 포토마스크의 공동개발에 관한 계약을 체결했습니다.
DNP는 국제 반도체 산업에서 다양한 파트너와 협력하여 개발을 추진함으로써 일본 반도체 산업의 성장에 기여할 것입니다.
*1 2나노미터 세대의 반도체 회로를 전사할 때 EUV 리소그래피용 포토마스크에 이물질이 부착되면 반도체 제조의 수율을 저하시킬 우려가 있습니다. DNP는 펠리클이 있는 EUV용 포토마스크 제조 공정의 개발을 추진해 나갈 것입니다.
＊2 2023年12月12日ニュースリリース：3ナノメートル相当のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスを開発 → https://www.dnp.co.jp/news/detail/20170116_1587.html
＊3 2016年12月13日ニュースリリース：次世代半導体用フォトマスクの生産体制を強化 → https://www.dnp.co.jp/news/detail/1187660_1587.html
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