大日本印刷、佳能、Kiokushia 3公司联合开发的“NIL超细半导体节能加工技术”荣获“49届环境奖”
2022年5月10日
由大日本印刷株式会社、佳能株式会社、Kiokushia株式会社3家公司共同开发的“基于NIL ※1的超微细半导体节能加工技术”在国立研究开发法人国立环境研究所/日刊工业新闻社主办、环境省后援的“第49届环境奖※2 ”中获得优秀奖。
- 纳米压印光刻
- 自1974年成立以来，“环境奖”一直在为解决污染问题而尖叫，为了促进环境保护和环境质量的提高，做出响应时代要求的出色努力的个人，公司，组织·我们正在奖励团体等。
【本次获奖的评价要点】
三家公司的“NIL技术”将精细图案转移到半导体制造基板上，实现了最先进半导体所需的纳米*3水平 (相当于半导体工艺的5代技术纳米节点) 的图案转移。关于该奖项，我们高度赞赏它作为支持物联网社会快速扩张的制造技术而受到关注，与传统方法相比，模式转移过程中的功耗保持在约1/10。
- 3.纳米是10亿倍1米
【关于NIL技术】
NIL技术用于形成称为半导体制造的光刻工艺的精细图案的工艺。与ArF (氟化氩) 浸液技术和EUV技术等传统光曝光技术不同，在底板上涂布的树脂上形成细微凹凸图案的印版上复制压印图案。
纳米压印光刻工艺流程
因此，没有光波长的限制，制造过程简单，设备规模小，并且可以在不增加功耗的情况下形成精细图案。此外，由于不存在传统光曝光技术的波长限制，因此图案转录技术可以应对未来的进一步微细化，并且即使在半导体微细化的预期进展中，也有望在不提高功耗的情况下长期用作制造技术。
【今后的发展】
大日本印刷在致力于半导体的微细化和半导体制造时的低耗电等广泛领域的研究开发的同时，以纳米级的尖端技术为中心，满足向社会各个领域扩展的半导体应用需求。
- 有关DNP纳米压印光刻 (NIL) 的详细信息，请单击此处。
https://www.dnp.co.jp/biz/solution/products/detail/10161946_1567.html
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