Die gemeinsame Entwicklung von Dai Nippon Printing, Canon und Kioxia für eine energiesparende NIL-Verarbeitungstechnologie für ultrafeine Halbleiter gewinnt den 49. Umweltpreis.
10. Mai 2022
Die von Dai Nippon Printing Co., Ltd., Canon Inc. und Kioxia Corporation gemeinsam entwickelte „Energiesparende Verarbeitungstechnologie für ultrafeine Halbleiter mittels NIL *1“, wurde bei den 49. Umweltpreisen *2, die vom National Institute for Environmental Studies (NIES) und der Nikkan Kogyo Shimbun, Ltd. gesponsert und vom Umweltministerium unterstützt werden, mit dem Excellence Award ausgezeichnet.
- Nano-Imprint-Lithographie
- Seit seiner Gründung im Jahr 1974, als die Rufe nach einer Lösung der Umweltprobleme laut wurden, wird der Umweltpreis an Einzelpersonen, Unternehmen, Organisationen und Gruppen verliehen, die sich in herausragender Weise bemühen, den Anforderungen der Zeit gerecht zu werden und zum Umweltschutz und zur Verbesserung der Umweltqualität beizutragen.
[Wichtigste Bewertungskriterien für diese Auszeichnung]
Die drei Unternehmen haben mit ihrer „NIL-Technologie“ die für modernste Halbleiter erforderliche Musterübertragung im Nanometerbereich *3 erreicht (entspricht der 5-Nanometer-Technologiegeneration in der Halbleiterfertigung). Diese Technologie überträgt feinste Muster auf Substrate, die in der Halbleiterherstellung verwendet werden. Die Auszeichnung würdigt die Tatsache, dass ihre Technologie den Energieverbrauch im Musterübertragungsprozess auf etwa ein Zehntel herkömmlicher Verfahren reduziert und als Fertigungstechnologie, die das rasante Wachstum der IoT-Gesellschaft unterstützen wird, große Aufmerksamkeit erregt.
- 3. Ein Nanometer ist ein Milliardstel Meter.
[Über die NIL-Technologie]
Die Nanoimprint-Lithographie (NIL) wird im Lithographieprozess der Halbleiterfertigung eingesetzt, um feinste Strukturen zu erzeugen. Im Gegensatz zu herkömmlichen Belichtungstechniken wie der ArF- (Argonfluorid-) Immersion und der EUV-Lithographie überträgt die NIL die Struktur, indem eine Platte mit fein strukturierten Erhebungen und Vertiefungen auf ein auf ein Substrat aufgebrachtes Harz gepresst wird.
Prozessablauf der Nanoimprint-Lithographie
Dies bedeutet, dass es keine Einschränkungen hinsichtlich der Lichtwellenlänge gibt, der Herstellungsprozess einfach ist, die Geräte klein sind und feine Strukturen ohne erhöhten Stromverbrauch erzeugt werden können. Da im Gegensatz zur herkömmlichen Belichtungstechnik keine Wellenlängenbeschränkungen bestehen, ermöglicht diese Musterübertragungstechnologie zukünftig eine noch weitere Miniaturisierung und dürfte sich als langfristige Fertigungstechnologie ohne steigenden Stromverbrauch etablieren, selbst angesichts der fortschreitenden Miniaturisierung von Halbleitern.
[Zukünftige Entwicklungen]
Dai Nippon Printing wird sich auch weiterhin in Forschung und Entwicklung auf einem breiten Spektrum von Gebieten engagieren, darunter die Miniaturisierung von Halbleitern und die Reduzierung des Stromverbrauchs bei der Halbleiterherstellung, und wird auf den wachsenden Bedarf an Halbleiternutzung in verschiedenen Bereichen der Gesellschaft reagieren, wobei der Schwerpunkt auf modernster Nanotechnologie liegt.
- Für weitere Informationen zur Nanoimprint-Lithographie (NIL) von DNP klicken Sie bitte hier.
https://www.dnp.co.jp/biz/solution/products/detail/10161946_1567.html
- Bitte klicken Sie hier, um die DNP-Firmenwerbung (Fernsehspots) anzusehen.
https://www.youtube.com/watch?v=GoVYNpZF5Bc
<Hinzugefügt am 11. Mai 2022> Für nähere Informationen zum Umweltpreis besuchen Sie bitte unsere Website.
https://biz.nikkan.co.jp/sanken/kankyo/index.html
- Die aufgeführten Produktpreise, Spezifikationen und Servicedetails entsprechen dem Stand zum Zeitpunkt der Veröffentlichung und können ohne vorherige Ankündigung geändert werden.