Das gemeinsame Projekt von Dai Nippon Printing, Canon und Kioxia mit dem Titel „Energiesparende Verarbeitungstechnologie für ultrafeine Halbleiter mittels NIL“ wurde mit dem „49. Umweltpreis“ ausgezeichnet.
10. Mai 2022
Dai Nippon Printing Co., Ltd., Ltd., Canon Inc. und Kioxia Corporation haben gemeinsam eine „Energiesparende Verarbeitungstechnologie für ultrafeine Halbleiter mittels NIL *1“ entwickelt, die bei den 49. Umweltpreisen *2, gesponsert vom National Institute for Environmental Studies und Nikkan Kogyo Shimbun und unterstützt vom Umweltministerium, mit einem Exzellenzpreis ausgezeichnet wurde.
- Nano-Imprint-Lithographie
- Seit seiner Gründung im Jahr 1974, als die Rufe nach einer Lösung der Umweltprobleme laut wurden, wird der Umweltpreis an Einzelpersonen, Unternehmen, Organisationen und Gruppen verliehen, die sich in herausragender Weise bemühen, den Anforderungen der Zeit gerecht zu werden und zum Umweltschutz und zur Verbesserung der Umweltqualität beizutragen.
[Wichtigste Bewertungskriterien für diese Auszeichnung]
Die drei Unternehmen haben mit ihrer „NIL-Technologie“ die für modernste Halbleiter erforderliche Musterübertragung im Nanometerbereich *3 erreicht (entspricht der 5-Nanometer-Technologiegeneration in der Halbleiterfertigung). Diese Technologie überträgt feinste Muster auf Substrate, die in der Halbleiterherstellung verwendet werden. Die Auszeichnung würdigt die Tatsache, dass ihre Technologie den Energieverbrauch im Musterübertragungsprozess auf etwa ein Zehntel herkömmlicher Verfahren reduziert und als Fertigungstechnologie, die das rasante Wachstum der IoT-Gesellschaft unterstützen wird, große Aufmerksamkeit erregt.
- 3. Ein Nanometer ist ein Milliardstel Meter.
[Über die NIL-Technologie]
Die Nanoimprint-Lithografie (NIL) wird in der Halbleiterfertigung zur Erzeugung feinster Strukturen eingesetzt. Im Gegensatz zu herkömmlichen Belichtungsverfahren wie der ArF- (Fluor-Argon) und der EUV-Lithografie wird bei der NIL eine Platte mit einem feinen Reliefmuster auf ein mit Harz beschichtetes Substrat gepresst, um das Muster zu übertragen.
Prozessablauf der Nanoimprint-Lithographie
Dies bedeutet, dass es keine Einschränkungen hinsichtlich der Lichtwellenlänge gibt, der Herstellungsprozess einfach ist, die Geräte klein sind und feine Strukturen ohne erhöhten Stromverbrauch erzeugt werden können. Da im Gegensatz zur herkömmlichen Belichtungstechnik keine Wellenlängenbeschränkungen bestehen, ermöglicht diese Musterübertragungstechnologie zukünftig eine noch weitere Miniaturisierung und dürfte sich als langfristige Fertigungstechnologie ohne steigenden Stromverbrauch etablieren, selbst angesichts der fortschreitenden Miniaturisierung von Halbleitern.
[Zukünftige Entwicklungen]
Dai Dai Nippon Printing wird sich in Forschung und Entwicklung auf einem breiten Spektrum von Gebieten engagieren, darunter die Miniaturisierung von Halbleitern und die Reduzierung des Stromverbrauchs bei der Halbleiterherstellung, und wird auf den wachsenden Bedarf an Halbleiteranwendungen in verschiedenen Bereichen der Gesellschaft reagieren, wobei der Schwerpunkt auf fortschrittlichen Nanotechnologien liegt.
- Für weitere Informationen zur Nanoimprint-Lithographie (NIL) von DNP klicken Sie bitte hier.
https://www.dnp.co.jp/biz/solution/products/detail/10161946_1567.html
- Bitte klicken Sie hier, um die DNP-Firmenwerbung (Fernsehspots) anzusehen.
https://www.youtube.com/watch?v=GoVYNpZF5Bc
<Hinzugefügt am 11. Mai 2022> Für nähere Informationen zum Umweltpreis besuchen Sie bitte unsere Website.
https://biz.nikkan.co.jp/sanken/kankyo/index.html
- Die aufgeführten Produktpreise, Spezifikationen und Servicedetails entsprechen dem Stand zum Zeitpunkt der Veröffentlichung und können ohne vorherige Ankündigung geändert werden.