Beschleunigung der Entwicklung von Fotomaskenherstellungsprozessen für die EUV-Lithographie der 2-Nanometer-Generation

In den letzten Jahren hat die Produktion hochmoderner Logik-Halbleiter durch EUV-Lithografie, die eine EUV-Lichtquelle nutzt, große Fortschritte gemacht. 2016 führte DNP als weltweit erster spezialisierter Fotomaskenhersteller einen Multi-Elektronenstrahl-Maskenschreiber ^*2 ein und stärkte damit seine Position im Bereich der Halbleiterfertigung mit hoher Produktivität und Qualität. 2023 schloss das Unternehmen die Entwicklung eines Fotomaskenherstellungsprozesses für die 3-Nanometer-EUV-Lithografie ^*3 ab und begann mit der Entwicklung für die 2-Nanometer-Generation.

Als Antwort auf den Bedarf an weiterer Miniaturisierung werden wir im Geschäftsjahr 2024 mit der Entwicklung eines Photomaskenherstellungsprozesses für die EUV-Lithographie der 2-Nanometer-Generation beginnen, einschließlich des Betriebs eines zweiten und dritten Multi-Elektronenstrahl-Maskenschreibers.

Darüber hinaus beteiligt sich DNP als Unterauftragnehmer an dem Projekt „(d1) Entwicklung von Fertigungstechnologie für hochintegrierte, hochmoderne Logikhalbleiter“, das von Rapidus Inc. im Rahmen des NEDO-Projekts „Forschung und Entwicklung zur Stärkung der Infrastruktur für Informations- und Kommunikationssysteme nach 5G“ in Auftrag gegeben wurde.

DNP wird die Entwicklung eines Herstellungsverfahrens für Fotomasken für Logikhalbleiter der 2-Nanometer-Generation, die mit der EUV-Lithographie kompatibel sind, bis zum Geschäftsjahr 2025 abschließen und ab dem Geschäftsjahr 2026 an der Etablierung von Produktionstechnologien arbeiten, mit dem Ziel, die Massenproduktion im Geschäftsjahr 2027 aufzunehmen.

Darüber hinaus haben wir mit der Entwicklung mit Blick auf die 2-Nanometer-Generation und darüber hinaus begonnen und eine Vereinbarung mit imec, einem hochmodernen internationalen Forschungsinstitut mit Hauptsitz in Belgien, unterzeichnet, um gemeinsam Fotomasken für die nächste Generation von EUV zu entwickeln.

DNP wird zum Wachstum der japanischen Halbleiterindustrie beitragen, indem es die Entwicklung in Zusammenarbeit mit verschiedenen Partnern in der internationalen Halbleiterindustrie fördert.

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