Investierte in Rapidus, um den Aufbau eines Massenproduktionssystems für Halbleiter der nächsten Generation zu unterstützen.

27. Februar 2026

Dai Nippon Printing Co., Ltd. (Hauptsitz: Tokio; Präsident und CEO: Yoshinari Kitajima; im Folgenden „DNP“) hat in Rapidus Inc. (Hauptsitz: Tokio; Präsident und CEO: Atsuyoshi Koike) investiert. Die Investition dient der Unterstützung der Entwicklung von Halbleiterwafer-Herstellungsverfahren der nächsten Generation mittels EUV-Lithografie (Extreme Ultraviolett). DNP wird die Entwicklung und Massenproduktion von Fotomasken für die EUV-Lithografie vorantreiben und Rapidus beim Aufbau eines Massenproduktionssystems für Halbleiter der nächsten Generation ab 2 Nanometern (nm: 10⁻⁹ m) unterstützen.

In den letzten Jahren haben Fortschritte in der KI und der Technologie des autonomen Fahrens zu einer rasanten Entwicklung der digitalen Gesellschaft geführt. Der daraus resultierende Anstieg des Energieverbrauchs aufgrund der zunehmenden Datenmengen stellt ein Problem dar und führt zu einer wachsenden Nachfrage nach Halbleitern der nächsten Generation, die die Geräteleistung verbessern und den Stromverbrauch senken. Halbleiter der nächsten Generation, die mittels EUV-Lithographie hergestellt werden, erzeugen feinere Strukturen auf Siliziumwafern als herkömmliche Verfahren. Dadurch sollen Halbleiter mit hoher Leistung und niedrigem Stromverbrauch realisiert werden.

Im Jahr 2024 wurde DNP als Unterauftragnehmer für die New Energy and Industrial Technology Development Organization (NEDO), eine nationale Forschungs- und Entwicklungsagentur, an der Rapidus beteiligt ist, im Rahmen ihres Forschungs- und Entwicklungsprojekts zur Stärkung der Infrastruktur für Informations- und Kommunikationssysteme nach 5G ausgewählt und entwickelt seitdem ein Photomaskenherstellungsverfahren für die EUV-Lithographie der 2-nm-Generation.

Zukünftig werden wir uns darauf konzentrieren, schnell hohe Ausbeuten und kurze Lieferzeiten für EUV-Lithographie-Photomasken der 2-nm-Generation zu erzielen, um das Unternehmensziel der Massenproduktion von Logikhalbleitern der 2-nm-Generation bis 2027 zu erreichen. Durch diese Investition werden wir die bisher zwischen den beiden Unternehmen aufgebaute Partnerschaft weiter stärken.

DNP hat Fotomasken für die EUV-Lithografie als Wachstumstreiber für sein Halbleitergeschäft positioniert und wird weiterhin proaktiv investieren. Darüber hinaus wird DNP die technologische Entwicklung mit Blick auf die noch feinere 1,4-nm-Generation und darüber hinaus vorantreiben und so zum Wachstum der japanischen Halbleiterindustrie beitragen.

＊DNPの最先端半導体用EUVリソグラフィ向けフォトマスクについて→ https://www.global.dnp/ja/news/detail/2024/12/1212_20176139/