與美國光電子在中國成立半導體光掩膜業務合資公司
2017年5月18日
Dai Nippon Printing Co., Ltd.（總部：東京，社長：北島義俊，資本：1144億日元，以下簡稱DNP）將與美國光掩模製造商Photronics公司（總部：美國康涅狄格州，首席執行官：Peter Kirlin，資本：681000美元，以下簡稱Photronics）成立合資企業，在中國掩模生產和銷售。
【成立合資公司的目的】
在半導體市場，預計中國將繼續大幅增長，預計2020年中國的半導體生產能力將占世界生產能力的20%左右。在這種情況下，當地半導體制造商對作為半導體制造主要材料的光掩膜的供應越來越需要通過當地生產來響應短交貨時間和穩定供應。
DNP與Photronics於2014年在臺灣共同設立了制造、銷售半導體用光掩膜的合資公司並進行經營。此次，為了準確應對中國市場需求的擴大，決定設立能夠滿足當地生產需求的合資公司。合資公司計劃在未來5年內投資1億6000萬美元，並將在福建省廈門市建立一家新工廠，供應半導體光掩模。
【合資公司設立概要】
1.成立合資公司的日程
| 合同簽訂日期 | 2017年5月16日 |
合同生效日期 | 2017年10月 (預計) |
2.合資公司概述
公司名稱 | Photronics DNP Mask Corporation Xiamen (PDMCX)
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地阯 | 中國福建省廈門市 |
| 業務內容 | 中國的半導體用光掩膜制造·銷售相關事業 |
| 所有權百分比 | Photonics 50.01%，DNP49.99% 新公司將成為Photonics的合並子公司和DNP的權益方法附屬公司。 |
【關於未來的前景】
今後兩家公司將為成立新公司辦理各項手續。本協議將於2017年10月生效，產品將於2018年12月開始批量生產。
- 新聞稿中提到的產品的價格、規格、服務內容等截至發佈之日。之後可能會在沒有預告的情況下變更，敬請諒解。