與美國光電子完成在華成立半導體光掩膜合資公司手續
2018年1月5日
Dai Nippon Printing Co., Ltd.（總部：東京，社長：北島義俊，資本：1144億日元，以下簡稱“大日本印刷”）已完成與美國光掩模製造商Photronics公司（總部：美國康涅狄格州，首席執行官：Peter Kirlin，資本：68100萬美元，以下簡稱“Photronics”）成立合資公司的程序。此次合資是基於雙方於2017年5月16日簽訂的關於中國半導體光掩模業務的合資協議。
【關於設立合營公司】
DNP與Photronics合作，於2014年在臺灣成立並運營一家合資公司，生產和銷售半導體光掩膜。預計中國將在未來的全球半導體市場中大幅增長，預計到2020年中國將占全球生產能力的約20%。
DNP和光電子日前宣佈，為滿足中國半導體廠商對光掩膜交貨期短、供應穩定的要求，計劃通過在中國當地生產，擴大在中國的光掩膜業務，並將於2017年5月在中國設立生產和銷售半導體用光掩膜的合資公司。
此次與光電子成立合資公司所需的手續已順利完成，我們將為在當地生產半導體制造的主要材料光掩膜做準備。
【合資公司概要】
公司名稱 | Photronics DNP Mask Corporation Xiamen (PDMCX) |
地阯 | 中國福建省廈門市 |
| 代表 | Peter Kirlin |
| 資本 | 2400萬美元 |
| 業務內容 | 中國半導體用光掩膜的制造和銷售 |
| 所有權百分比 | 光電50.01%，DNP49.99% 新公司將成為Photonics的合並子公司和DNP的權益法適用公司。 |
【今後的發展】
DNP和Photonics將在未來5年內投資1億6000萬美元在福建省廈門市建立一家新工廠，並計劃從2019年春季開始批量生產光掩模。通過在中國建立光掩膜制造基地，在滿足當地半導體廠商交貨期短的同時，實現穩定供貨。
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