大日本印刷、佳能、Kiokushia 3公司聯合開發的“NIL超細半導體節能加工技術”榮獲“49屆環境獎”
2022年5月10日
由大日本印刷株式會社、佳能株式會社、Kiokushia株式會社3家公司共同開發的“基於NIL ※1的超微細半導體節能加工技術”在國立研究開發法人國立環境研究所/日刊工業新聞社主辦、環境省後援的“第49屆環境獎※2 ”中獲得優秀獎。
- 納米壓印光刻
- 自1974年成立以來，“環境獎”一直在為解決汙染問題而尖叫，為了促進環境保護和環境質量的提高，做出響應時代要求的出色努力的個人，公司，組織·我們正在獎勵團體等。
【本次獲獎的評價要點】
三家公司的“NIL技術”將精細圖案轉移到半導體制造基板上，實現了最先進半導體所需的納米*3水平 (相當於半導體工藝的5代技術納米節點) 的圖案轉移。關於該獎項，我們高度贊賞它作為支持物聯網社會快速擴張的制造技術而受到關註，與傳統方法相比，模式轉移過程中的功耗保持在約1/10。
- 3.納米是10億倍1米
【關於NIL技術】
NIL技術用於形成稱為半導體制造的光刻工藝的精細圖案的工藝。與ArF (氟化氬) 浸液技術和EUV技術等傳統光曝光技術不同，在底板上塗佈的樹脂上形成細微凹凸圖案的印版上復制壓印圖案。
納米壓印光刻工藝流程
因此，沒有光波長的限制，制造過程簡單，設備規模小，並且可以在不增加功耗的情況下形成精細圖案。此外，由於不存在傳統光曝光技術的波長限制，因此圖案轉錄技術可以應對未來的進一步微細化，並且即使在半導體微細化的預期進展中，也有望在不提高功耗的情況下長期用作制造技術。
【今後的發展】
大日本印刷在衹力於半導體的微細化和半導體制造時的低耗電等廣泛領域的研究開發的同時，以納米級的尖端技術為中心，滿足向社會各個領域擴展的半導體應用需求。
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