Dai Nippon Printing、佳能株式會社和鎧俠株式會社的聯合計畫「利用奈米壓印光刻技術實現超細半導體的節能加工技術」榮獲「第49屆環境獎」。

2022年5月10日

Dai Nippon Printing Co., Ltd.株式會社、佳能株式會社和鎧俠株式會社共同開發了“利用奈米壓印光刻技術製造超細半導體的節能加工技術^*1”，該技術在由國立環境研究所和《日刊工業新聞》主辦、環境省支持的第49屆環境獎^*2中獲優秀獎。

納米壓印光刻
自1974年成立以來，“環境獎”一直在為解決汙染問題而尖叫，為了促進環境保護和環境質量的提高，做出響應時代要求的出色努力的個人，公司，組織·我們正在獎勵團體等。

【本次獲獎的評價要點】

三家公司的“NIL技術”將精細圖案轉移到半導體制造基板上，實現了最先進半導體所需的納米^*3水平 (相當於半導體工藝的5代技術納米節點) 的圖案轉移。關於該獎項，我們高度贊賞它作為支持物聯網社會快速擴張的制造技術而受到關註，與傳統方法相比，模式轉移過程中的功耗保持在約1/10。

奈米壓印光刻（NIL）技術應用於半導體製造的光刻製程中，該製程用於形成精細圖案。與傳統的曝光技術（例如ArF（氟化氬）浸沒式微影技術和EUV微影技術）不同，NIL技術是將帶有精細凹凸紋理加工的壓板壓印到塗覆在基板上的樹脂上，從而實現圖案的轉移。

納米壓印光刻工藝流程

因此，沒有光波長的限制，制造過程簡單，設備規模小，並且可以在不增加功耗的情況下形成精細圖案。此外，由於不存在傳統光曝光技術的波長限制，因此圖案轉錄技術可以應對未來的進一步微細化，並且即使在半導體微細化的預期進展中，也有望在不提高功耗的情況下長期用作制造技術。

Dai Nippon Printing印刷株式會社將從事包括半導體小型化和降低半導體製造過程中的功耗在內的廣泛領域的研究和開發，並將以先進的奈米級技術為中心，響應社會各領域對半導體應用日益增長的需求。